电镀涂装去离子水设备

   原水电导率高于400uS/cm，产水要求≤0.1uS/cm，
                 优先考虑反渗透（RO）+混床
                 若不允许酸碱再生，又有较高的预算：考虑R0+EDI或RO+RO+EDI

    原水电导率200-400uS/cm，产水要求≤0.1uS/cm，        
                 优先考虑反渗透（RO）+混床
                 亦可考虑阳、阴双床+混床
                 若不允许酸碱再生，又有较高的预算：考虑R0+EDI或RO+RO+EDI

    原水电导率小于200uS/cm，产水要求≤0.1uS/cm，        
                 优先考虑阳、阴双床+混床（投资运行成本双低）
                 若要求稳定且少酸碱排放考虑反渗透（RO）+混床（运行成本稍高）
                 若不允许酸碱再生，又有较高的预算：考虑R0+EDI或RO+RO+EDI

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